Graphene production by dissociation of camphor molecules on nickel substrate
Φόρτωση...
Ημερομηνία
Συγγραφείς
Ravani, F.
Papagelis, K.
Dracopoulos, V.
Parthenios, J.
Dassios, K. G.
Siokou, A.
Galiotis, C.
Τίτλος Εφημερίδας
Περιοδικό ISSN
Τίτλος τόμου
Εκδότης
Elsevier
Περίληψη
Τύπος
Είδος δημοσίευσης σε συνέδριο
Είδος περιοδικού
peer reviewed
Είδος εκπαιδευτικού υλικού
Όνομα συνεδρίου
Όνομα περιοδικού
Thin Solid Films
Όνομα βιβλίου
Σειρά βιβλίου
Έκδοση βιβλίου
Συμπληρωματικός/δευτερεύων τίτλος
Περιγραφή
A chemical vapor deposition (CVD) process for the production of continuous-high quality-graphene layers based on camphor decomposition on polycrystalline Ni foil, is demonstrated. In situ X-ray diffraction at the pyrolysis temperature of the Ni foil indicates the presence of dominant Ni < 111 > grains which play an important role in the carbon nucleation and growth. The topography of the grown graphene layers is studied by scanning electron microscopy and atomic force microscopy which show that the Ni surface is covered by continuous and wrinkled graphene carpets. Raman spectroscopy reveals the high quality of the graphene film which appears to be only a few monolayers thick. X-ray photoelectron spectroscopy indicates the existence of graphitic layers and the absence of any spectral features associated with carbides (NixC). The proposed CVD process is a sufficient method for large scale production of graphene films. (C) 2012 Elsevier B. V. All rights reserved.
Περιγραφή
Λέξεις-κλειδιά
graphene, chemical vapor deposition, raman spectroscopy, camphor, chemical-vapor-deposition, few-layer graphene, raman-spectroscopy, single-layer, growth, films, graphite, compression, scattering, monolayer
Θεματική κατηγορία
Παραπομπή
Σύνδεσμος
<Go to ISI>://000314037200006
Γλώσσα
en
Εκδίδον τμήμα/τομέας
Όνομα επιβλέποντος
Εξεταστική επιτροπή
Γενική Περιγραφή / Σχόλια
Ίδρυμα και Σχολή/Τμήμα του υποβάλλοντος
Πανεπιστήμιο Ιωαννίνων. Σχολή Θετικών Επιστημών. Τμήμα Μηχανικών Επιστήμης Υλικών