Exploring the potential of high power impulse magnetron sputtering for growth of diamond-like carbon films
Φόρτωση...
Ημερομηνία
Τίτλος Εφημερίδας
Περιοδικό ISSN
Τίτλος τόμου
Εκδότης
Elsevier
Περίληψη
Τύπος
Είδος δημοσίευσης σε συνέδριο
Είδος περιοδικού
peer reviewed
Είδος εκπαιδευτικού υλικού
Όνομα συνεδρίου
Όνομα περιοδικού
Surface & Coatings Technology
Όνομα βιβλίου
Σειρά βιβλίου
Έκδοση βιβλίου
Συμπληρωματικός/δευτερεύων τίτλος
Περιγραφή
Amorphous carbon films are deposited employing high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) at pulsing frequencies of 250 Hz and 1 kHz. Films are also deposited by direct current magnetron sputtering (dcMS), for reference. In both HiPIMS and dcMS cases, unipolar pulsed negative bias voltages up to 150 V are applied to the substrate to tune the energy of the positively charged ions that bombard the growing film. Plasma analysis reveals that HiPIMS leads to generation of a larger number of ions with larger average energies, as compared to dcMS. At the same time, the plasma composition is not affected, with Ar+ ions being the dominant ionized species at all deposition conditions. Analysis of the film properties shows that HiPIMS allows for growth of amorphous carbon films with sp(3) bond fraction up to 45% and density up to 2.2 g cm(-3). The corresponding values achieved by dcMS are 30% and 2.05 g cm(-3), respectively. The larger fraction of sp(3) bonds and mass density found in films grown by HiPIMS are explained in light of the more intense ion irradiation provided by the HiPIMS discharge as compared to the dcMS one. (C) 2011 Elsevier B.V. All rights reserved.
Περιγραφή
Λέξεις-κλειδιά
hipims, hppms, diamond-like carbon, ionized pvd, tetrahedral amorphous-carbon, cross-sectional structure, energy-loss spectroscopy, a-c-h, thin-films, deposition, ionization, coatings, microstructure, mechanism
Θεματική κατηγορία
Παραπομπή
Σύνδεσμος
<Go to ISI>://000299713600011
http://ac.els-cdn.com/S0257897211011704/1-s2.0-S0257897211011704-main.pdf?_tid=2e3a359ffe0b99a70db1f01686c533e0&acdnat=1339756002_c68129342b6a296207e111976b0e6c37
http://ac.els-cdn.com/S0257897211011704/1-s2.0-S0257897211011704-main.pdf?_tid=2e3a359ffe0b99a70db1f01686c533e0&acdnat=1339756002_c68129342b6a296207e111976b0e6c37
Γλώσσα
en
Εκδίδον τμήμα/τομέας
Όνομα επιβλέποντος
Εξεταστική επιτροπή
Γενική Περιγραφή / Σχόλια
Ίδρυμα και Σχολή/Τμήμα του υποβάλλοντος
Πανεπιστήμιο Ιωαννίνων. Σχολή Θετικών Επιστημών. Τμήμα Μηχανικών Επιστήμης Υλικών