A new technique for I(DDQ) testing in nanometer technologies

Φόρτωση...
Μικρογραφία εικόνας

Ημερομηνία

Συγγραφείς

Tsiatouhas, Y.
Moisiadis, Y.
Haniotakis, T.
Nikolos, D.
Arapoyanni, A.

Τίτλος Εφημερίδας

Περιοδικό ISSN

Τίτλος τόμου

Εκδότης

Περίληψη

Τύπος

Είδος δημοσίευσης σε συνέδριο

Είδος περιοδικού

peer reviewed

Είδος εκπαιδευτικού υλικού

Όνομα συνεδρίου

Όνομα περιοδικού

Integration-the Vlsi Journal

Όνομα βιβλίου

Σειρά βιβλίου

Έκδοση βιβλίου

Συμπληρωματικός/δευτερεύων τίτλος

Περιγραφή

I(DDQ) testing has become a widely accepted defect detection technique in CMOS ICs. However, its effectiveness in very deep submicron technologies is threatened by the increased transistor leakage current. In this paper, we propose a technique for the elimination, during testing, of the normal leakage current from the sensing node of a circuit under test. In this way the already known in the open literature I(DDQ) sensing techniques can be applied in the nanometer technologies. (C) 2002 Elsevier Science B.V. All rights reserved.

Περιγραφή

Λέξεις-κλειδιά

i(ddq) testing, current monitoring, design for testability, submicron cmos, circuits, design, future, issues

Θεματική κατηγορία

Παραπομπή

Σύνδεσμος

Γλώσσα

en

Εκδίδον τμήμα/τομέας

Όνομα επιβλέποντος

Εξεταστική επιτροπή

Γενική Περιγραφή / Σχόλια

Ίδρυμα και Σχολή/Τμήμα του υποβάλλοντος

Πανεπιστήμιο Ιωαννίνων. Σχολή Θετικών Επιστημών. Τμήμα Μηχανικών Ηλεκτρονικών Υπολογιστών και Πληροφορικής

Πίνακας περιεχομένων

Χορηγός

Βιβλιογραφική αναφορά

Ονόματα συντελεστών

Αριθμός σελίδων

Λεπτομέρειες μαθήματος

item.page.endorsement

item.page.review

item.page.supplemented

item.page.referenced