Phase-inversion applications beyond membrane formation. I. Lithography films
Φόρτωση...
Ημερομηνία
Συγγραφείς
Beltsios, K.
Athanasiou, E.
Tegou, E.
Kanellopoulos, N.
Τίτλος Εφημερίδας
Περιοδικό ISSN
Τίτλος τόμου
Εκδότης
John Wiley & Sons
Περίληψη
Τύπος
Είδος δημοσίευσης σε συνέδριο
Είδος περιοδικού
peer reviewed
Είδος εκπαιδευτικού υλικού
Όνομα συνεδρίου
Όνομα περιοδικού
Journal of Applied Polymer Science
Όνομα βιβλίου
Σειρά βιβλίου
Έκδοση βιβλίου
Συμπληρωματικός/δευτερεύων τίτλος
Περιγραφή
Polymeric films cast from a polymer solution can develop a bulk porosity, if the conditions are favorable for phase inversion (PI), a physical chemical process based on fluid-fluid demixing of which there are two known major variants: wet and dry PI. As the formation of polymeric coatings often involves a polymeric solution or gel precursor, dry or wet PI phenomena may affect the structure formation of the final solvent-free coating. In this article we identify the situations under which lithographic films can develop a PI structure and focus on solid polymer layers undergoing postcasting wet processing. Examples are provided from the wet processing of a fractionated epoxy novolac resin currently used in lithographic patterning. (C) 2000 John Wiley & Sons, Inc.
Περιγραφή
Λέξεις-κλειδιά
phase inversion, polymeric coatings, lithography, epoxy novolac resin, wet silylation, polymer dissolution, formation mechanism, high-resolution, separation, resists, wet, crystallization, photoresists, gelation, systems
Θεματική κατηγορία
Παραπομπή
Σύνδεσμος
<Go to ISI>://000089981200010
Γλώσσα
en
Εκδίδον τμήμα/τομέας
Όνομα επιβλέποντος
Εξεταστική επιτροπή
Γενική Περιγραφή / Σχόλια
Ίδρυμα και Σχολή/Τμήμα του υποβάλλοντος
Πανεπιστήμιο Ιωαννίνων. Σχολή Θετικών Επιστημών. Τμήμα Μηχανικών Επιστήμης Υλικών