Optimized Surface Silylation of Chemically Amplified Epoxidized Photoresists for Micromachining Applications
Φόρτωση...
Ημερομηνία
Συγγραφείς
Kontziampasis, D.
Beltsios, K.
Tegou, E.
Argitis, P.
Gogolides, E.
Τίτλος Εφημερίδας
Περιοδικό ISSN
Τίτλος τόμου
Εκδότης
Wiley
Περίληψη
Τύπος
Είδος δημοσίευσης σε συνέδριο
Είδος περιοδικού
peer reviewed
Είδος εκπαιδευτικού υλικού
Όνομα συνεδρίου
Όνομα περιοδικού
Journal of Applied Polymer Science
Όνομα βιβλίου
Σειρά βιβλίου
Έκδοση βιβλίου
Συμπληρωματικός/δευτερεύων τίτλος
Περιγραφή
We explored the selective wet silylation of noncrosslinked areas of epoxidized photoresists using chlorosilanes. Emphasis was placed on the Si uptake of the epoxy films when controlled low levels of water were incorporated into the silylation solution. Fourier transform infrared measurements and oxygen-plasma resistance data with in situ laser interferometry and multiwavelength ellipsometry are presented. The fine tuning of the moisture level was found to be crucial for the generation of satisfactory and reproducible structures. The optimized version of the process was shown to be useful for epoxy-based dry micromachining. Overall, an attractive positive-tone process is presented as an alternative to the usual negative-tone process for commercial epoxy resists. (C) 2010 Wiley Periodicals, Inc. J Appl Polym Sci 117: 2189-2195, 2010
Περιγραφή
Λέξεις-κλειδιά
functionalization of polymers, microstructure, photoresists, selectivity, electron-beam lithography, amplification resists, novolac resist
Θεματική κατηγορία
Παραπομπή
Σύνδεσμος
<Go to ISI>://000278886900041
http://onlinelibrary.wiley.com/store/10.1002/app.31644/asset/31644_ftp.pdf?v=1&t=h3fkch5l&s=a74231cb3a055288455a98a25c3b2fa57c1b3aff
http://onlinelibrary.wiley.com/store/10.1002/app.31644/asset/31644_ftp.pdf?v=1&t=h3fkch5l&s=a74231cb3a055288455a98a25c3b2fa57c1b3aff
Γλώσσα
en
Εκδίδον τμήμα/τομέας
Όνομα επιβλέποντος
Εξεταστική επιτροπή
Γενική Περιγραφή / Σχόλια
Ίδρυμα και Σχολή/Τμήμα του υποβάλλοντος
Πανεπιστήμιο Ιωαννίνων. Σχολή Θετικών Επιστημών. Τμήμα Μηχανικών Επιστήμης Υλικών