Insights on the deposition mechanism of sputtered amorphous carbon films
Φόρτωση...
Ημερομηνία
Συγγραφείς
Τίτλος Εφημερίδας
Περιοδικό ISSN
Τίτλος τόμου
Εκδότης
Pergamon-Elsevier
Περίληψη
Τύπος
Είδος δημοσίευσης σε συνέδριο
Είδος περιοδικού
peer reviewed
Είδος εκπαιδευτικού υλικού
Όνομα συνεδρίου
Όνομα περιοδικού
Carbon
Όνομα βιβλίου
Σειρά βιβλίου
Έκδοση βιβλίου
Συμπληρωματικός/δευτερεύων τίτλος
Περιγραφή
Low energy Ar+ ion bombardment (LEIB) during growth of amorphous carbon (a-C) films deposited with magnetron sputtering (MS), results to dense films, rich in sp(3) C-C bonds, and exhibit high hardness and compressive stress. We present here a preliminary study of the growth mechanism of a-C films deposited with negative bias voltage (LEIB) in terms of their composition, density and mechanical properties. The experimental results showed that stress and hardness are directly related with the sp(3) C-C bonding in the film and described well with the so far proposed models on the formation mechanism of tetrahedral carbon. However, the film density, that is a composite property, was found to depend not only on the sp(2) and sp(3) content but also on a new, denser than graphite, carbon phase when the Ar+ ion energy is above similar to 130 eV. (C) 1999 Elsevier Science Ltd. All rights reserved.
Περιγραφή
Λέξεις-κλειδιά
amorphous carbon, plasma sputtering, elastic properties, microstructure, stress-induced formation, a-c-h, thin-films, approaching diamond, compressive-stress, optical-properties, ion energy, density, model
Θεματική κατηγορία
Παραπομπή
Σύνδεσμος
<Go to ISI>://000080216000010
Γλώσσα
en
Εκδίδον τμήμα/τομέας
Όνομα επιβλέποντος
Εξεταστική επιτροπή
Γενική Περιγραφή / Σχόλια
Ίδρυμα και Σχολή/Τμήμα του υποβάλλοντος
Πανεπιστήμιο Ιωαννίνων. Σχολή Θετικών Επιστημών. Τμήμα Μηχανικών Επιστήμης Υλικών