The effect of substrate temperature and biasing on the mechanical properties and structure of sputtered titanium nitride thin films
Φόρτωση...
Ημερομηνία
Συγγραφείς
Patsalas, P.
Charitidis, C.
Logothetidis, S.
Τίτλος Εφημερίδας
Περιοδικό ISSN
Τίτλος τόμου
Εκδότης
Elsevier
Περίληψη
Τύπος
Είδος δημοσίευσης σε συνέδριο
Είδος περιοδικού
peer reviewed
Είδος εκπαιδευτικού υλικού
Όνομα συνεδρίου
Όνομα περιοδικού
Surface & Coatings Technology
Όνομα βιβλίου
Σειρά βιβλίου
Έκδοση βιβλίου
Συμπληρωματικός/δευτερεύων τίτλος
Περιγραφή
The mechanical properties of titanium nitride (TiNx) thin films have been investigated using depth sensing nanoindentation tests. The effects of substrate temperature (T-s) and of substrate biasing (V-b) on the mechanical properties and the microstructure of the TiNx films were studied. T-s and V-b have strong effect on the film's microstructural characteristics such as density, grain size and orientation. It was found that deposition at high T-s and V-b promotes the growth of (002) oriented films with density close to the bulk density of stoichiometric TIN, indicating the absence of voids and the growth of stoichiometric TiN. The film hardness and elastic modulus were measured using the continuous stiffness measurements technique. It was found that there exists a direct correlation between the film's mechanical properties and microstructure. The films that exhibit the best mechanical performance are those grown along the (002) orientation and being denser and stoichiometric. (C) 2000 Elsevier Science S.A. All rights reserved.
Περιγραφή
Λέξεις-κλειδιά
grain growth, nano-indentation, sputtering, titanium nitride, x-ray diffraction, tin, contacts, zrn, hfn
Θεματική κατηγορία
Παραπομπή
Σύνδεσμος
<Go to ISI>://000085945600061
Γλώσσα
en
Εκδίδον τμήμα/τομέας
Όνομα επιβλέποντος
Εξεταστική επιτροπή
Γενική Περιγραφή / Σχόλια
Ίδρυμα και Σχολή/Τμήμα του υποβάλλοντος
Πανεπιστήμιο Ιωαννίνων. Σχολή Θετικών Επιστημών. Τμήμα Μηχανικών Επιστήμης Υλικών