Sodium and chlorine coadsorption on Si(100)
Φόρτωση...
Ημερομηνία
Συγγραφείς
Kamaratos, M.
Papageorgopoulos, C. A.
Τίτλος Εφημερίδας
Περιοδικό ISSN
Τίτλος τόμου
Εκδότης
Περίληψη
Τύπος
Είδος δημοσίευσης σε συνέδριο
Είδος περιοδικού
peer reviewed
Είδος εκπαιδευτικού υλικού
Όνομα συνεδρίου
Όνομα περιοδικού
Surface Review and Letters
Όνομα βιβλίου
Σειρά βιβλίου
Έκδοση βιβλίου
Συμπληρωματικός/δευτερεύων τίτλος
Περιγραφή
In this paper we study the adsorption of molecular chlorine on the Si(100)(2 x 1) surface and its interaction with sodium at room and elevated temperature in an ultrahigh vacuum. Cl is deposited dissociatively on the surface and forms SiCl2 and SiCl4. During Na deposition on the Cl-covered Si(100) surface, the substrate participates to a NaSiCl2 compound formation, whereas Cl deposition on Na-covered SI(100) leads to NaCl formation, which is grown with the (100) plane parallel to the surface. After the completion of the NaCl formation, the excess Cl interacts with the substrate and forms Si-Cl compounds. The presence of Na on the surface prevents partly the chlorination of Si, depending on the amount of Na. At elevated temperatures, the NaCl dissociates according to the equation 2NaCl + Si --> Na2Cl + SiCl and desorbs.
Περιγραφή
Λέξεις-κλειδιά
adsorption geometry, bonding sites, alkali-halide, cl ions, surface, desorption, si(111), si, na, chemisorption
Θεματική κατηγορία
Παραπομπή
Σύνδεσμος
<Go to ISI>://000170581500004
http://www.worldscinet.com/srl/08/0803n04/S0218625X01001014.html
http://www.worldscinet.com/srl/08/0803n04/S0218625X01001014.html
Γλώσσα
en
Εκδίδον τμήμα/τομέας
Όνομα επιβλέποντος
Εξεταστική επιτροπή
Γενική Περιγραφή / Σχόλια
Ίδρυμα και Σχολή/Τμήμα του υποβάλλοντος
Πανεπιστήμιο Ιωαννίνων. Σχολή Επιστημών και Τεχνολογιών. Τμήμα Βιολογικών Εφαρμογών και Τεχνολογιών