Coupling Length Scales for Multiscale Atomistics-Continuum Simulations: Atomistically-Induced Stress Distributions in Si/Si3N4 Nanopixels
Φόρτωση...
Ημερομηνία
Συγγραφείς
Lidorikis, E.
Bachlechner, M.
Kalia, M.
Nakano, A.
Vashishta, P.
Voyiadjis, G.
Τίτλος Εφημερίδας
Περιοδικό ISSN
Τίτλος τόμου
Εκδότης
The American Physical Society
Περίληψη
Τύπος
Είδος δημοσίευσης σε συνέδριο
Είδος περιοδικού
peer reviewed
Είδος εκπαιδευτικού υλικού
Όνομα συνεδρίου
Όνομα περιοδικού
Phys Rev Lett
Όνομα βιβλίου
Σειρά βιβλίου
Έκδοση βιβλίου
Συμπληρωματικός/δευτερεύων τίτλος
Περιγραφή
A hybrid molecular-dynamics (MD) and finite-element simulation approach is used to study stress distributions in silicon/silicon-nitride nanopixels. The hybrid approach provides atomistic description near the interface and continuum description deep into the substrate, increasing the accessible length scales and greatly reducing the computational cost. The results of the hybrid simulation are in good agreement with full multimillion-atom MD simulations: atomic structures at the lattice-mismatched interface between amorphous silicon nitride and silicon induce inhomogeneous stress patterns in the substrate that cannot be reproduced by a continuum approach alone.
Περιγραφή
Λέξεις-κλειδιά
Θεματική κατηγορία
Παραπομπή
Σύνδεσμος
Γλώσσα
en
Εκδίδον τμήμα/τομέας
Όνομα επιβλέποντος
Εξεταστική επιτροπή
Γενική Περιγραφή / Σχόλια
Ίδρυμα και Σχολή/Τμήμα του υποβάλλοντος
Πανεπιστήμιο Ιωαννίνων. Σχολή Θετικών Επιστημών. Τμήμα Μηχανικών Επιστήμης Υλικών