Preparation of thin coatings of titanium compounds with ion implantation

Φόρτωση...
Μικρογραφία εικόνας

Ημερομηνία

Συγγραφείς

Mozetic, M.
Zalar, A.
Jagielski, J.
Evangelakis, G. A.
Drobnic, M.
Chab, V.

Τίτλος Εφημερίδας

Περιοδικό ISSN

Τίτλος τόμου

Εκδότης

Περίληψη

Τύπος

Είδος δημοσίευσης σε συνέδριο

Είδος περιοδικού

peer reviewed

Είδος εκπαιδευτικού υλικού

Όνομα συνεδρίου

Όνομα περιοδικού

Informacije Midem-Journal of Microelectronics Electronic Components and Materials

Όνομα βιβλίου

Σειρά βιβλίου

Έκδοση βιβλίου

Συμπληρωματικός/δευτερεύων τίτλος

Περιγραφή

The growth of thin coatings of titanium oxide and nitride during ion implantation of respective ions into titanium substrate was studied theoretically and experimentally. The IBM SRIM software was used to determine the concentration profiles of implanted ions. the sputtering rate, probability of back - scattering and ion energy loss mechanisms. Theoretical results were compared with experiments. Samples of pure titanium plates were carefully polished and exposed to a flux of oxygen and nitrogen ions with the kinetic energy of 100 keV per molecule (50 keV per atom). The ion doses were 5X10(16), 1X10(17), 2.5X10(17), 5X10(17), 5X10(17), 1X10(18) atoms/cm(2). Depth profiles of the samples were determined by the AES method. Both the theory and experiment showed that the ion range at the low dose was about 90 nm for the case of nitrogen, and 80 nm for the case of oxygen, with depth distribution typical for ion implantation. Experimental results showed that a layer of titanium compound with a constant composition was formed at the ion dose above 7.5X10(17) atoms/cm(2).

Περιγραφή

Λέξεις-κλειδιά

microelectronics, ion implantation, surface technologies, surface engineering, surface coatings, thin coatings, semiconductor compounds, computer simulations, srim ibm software, stopping and range of ions in matter, ti compounds, titanium compounds, ti oxides, titanium oxides, ti nitrides, titanium nitrides, ion beams, irradiation damages, thin films, aes, auger electron spectroscopy, aes depth profiling

Θεματική κατηγορία

Παραπομπή

Σύνδεσμος

<Go to ISI>://000084579200001

Γλώσσα

en

Εκδίδον τμήμα/τομέας

Όνομα επιβλέποντος

Εξεταστική επιτροπή

Γενική Περιγραφή / Σχόλια

Ίδρυμα και Σχολή/Τμήμα του υποβάλλοντος

Πανεπιστήμιο Ιωαννίνων. Σχολή Επιστημών και Τεχνολογιών. Τμήμα Βιολογικών Εφαρμογών και Τεχνολογιών

Πίνακας περιεχομένων

Χορηγός

Βιβλιογραφική αναφορά

Ονόματα συντελεστών

Αριθμός σελίδων

Λεπτομέρειες μαθήματος

item.page.endorsement

item.page.review

item.page.supplemented

item.page.referenced