Layer-by-layer UV micromachining methodology of epoxy resist embedded microchannels
Φόρτωση...
Ημερομηνία
Συγγραφείς
Kitsara, M.
Chatzichristidi, M.
Niakoula, D.
Goustouridis, D.
Beltsios, K.
Argitis, P.
Raptis, I.
Τίτλος Εφημερίδας
Περιοδικό ISSN
Τίτλος τόμου
Εκδότης
Elsevier
Περίληψη
Τύπος
Είδος δημοσίευσης σε συνέδριο
Είδος περιοδικού
peer reviewed
Είδος εκπαιδευτικού υλικού
Όνομα συνεδρίου
Όνομα περιοδικού
Microelectronic Engineering
Όνομα βιβλίου
Σειρά βιβλίου
Έκδοση βιβλίου
Συμπληρωματικός/δευτερεύων τίτλος
Περιγραφή
A novel layer-by-layer fabrication approach for the manufacturing of long embedded microchannels is presented. The methodology is based on the use of two epoxy based photoresist layers with different photo acid generator (PAG) concentration. Using this methodology long, functional microchannels are demonstrated. The technology has been optimized through tuning of the epoxy molecular weight, PAG concentrations and processing conditions. Finally, a basic microfluidic application is presented. (c) 2006 Elsevier B.V. All rights reserved.
Περιγραφή
Λέξεις-κλειδιά
embedded microchannels, epoxy resist, uv lithography, micro-channels, fabrication
Θεματική κατηγορία
Παραπομπή
Σύνδεσμος
<Go to ISI>://000237581900162
http://ac.els-cdn.com/S0167931706001031/1-s2.0-S0167931706001031-main.pdf?_tid=29a5a8629e67ef735b7acbfc9ca2885c&acdnat=1339662561_8f52e068d74242340a2dd4a3162b2916
http://ac.els-cdn.com/S0167931706001031/1-s2.0-S0167931706001031-main.pdf?_tid=29a5a8629e67ef735b7acbfc9ca2885c&acdnat=1339662561_8f52e068d74242340a2dd4a3162b2916
Γλώσσα
en
Εκδίδον τμήμα/τομέας
Όνομα επιβλέποντος
Εξεταστική επιτροπή
Γενική Περιγραφή / Σχόλια
Ίδρυμα και Σχολή/Τμήμα του υποβάλλοντος
Πανεπιστήμιο Ιωαννίνων. Σχολή Θετικών Επιστημών. Τμήμα Μηχανικών Επιστήμης Υλικών