Controlling the Orientation, Edge Geometry, and Thickness of Chemical Vapor Deposition Graphene
Φόρτωση...
Ημερομηνία
Συγγραφείς
Murdock, A. T.
Koos, A.
Britton, T.
Houben, L.
Batten, T.
Zhang, T.
Wilkinson, A. J.
Dunin-Borkowski, R. E.
Lekka, Ch. E.
Grobert, N.
Τίτλος Εφημερίδας
Περιοδικό ISSN
Τίτλος τόμου
Εκδότης
American Chemical Society
Περίληψη
Τύπος
Είδος δημοσίευσης σε συνέδριο
Είδος περιοδικού
peer reviewed
Είδος εκπαιδευτικού υλικού
Όνομα συνεδρίου
Όνομα περιοδικού
ACS Nano
Όνομα βιβλίου
Σειρά βιβλίου
Έκδοση βιβλίου
Συμπληρωματικός/δευτερεύων τίτλος
Περιγραφή
We report that the shape, orientation, edge geometry, and thickness of chemical vapor deposition graphene domains can be controlled by the crystallographic orientations of Cu substrates. Under low-pressure conditions, single-layer graphene domains align with zigzag edges parallel to a single 101 direction on Cu(111) and Cu(101), while bilayer domains align to two directions on Cu(001). Under atmospheric pressure conditions, hexagonal domains also preferentially align. This discovery can be exploited to generate high-quality, tailored graphene with controlled domain thickness, orientations, edge geometries, and grain boundaries.
Περιγραφή
Λέξεις-κλειδιά
graphene, CVD, Cu, orientation, crystallography, EBSD
Θεματική κατηγορία
Παραπομπή
Σύνδεσμος
http://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/nn3049297
Γλώσσα
en
Εκδίδον τμήμα/τομέας
Όνομα επιβλέποντος
Εξεταστική επιτροπή
Γενική Περιγραφή / Σχόλια
Ίδρυμα και Σχολή/Τμήμα του υποβάλλοντος
Πανεπιστήμιο Ιωαννίνων. Σχολή Θετικών Επιστημών. Τμήμα Μηχανικών Επιστήμης Υλικών