Conducting transition metal nitride thin films with tailored cell sizes: The case of delta-Ti(x)Ta(1-x)N
Φόρτωση...
Ημερομηνία
Συγγραφείς
Koutsokeras, L. E.
Abadias, G.
Lekka, C. E.
Matenoglou, G. M.
Anagnostopoulos, D. F.
Evangelakis, G. A.
Patsalas, P.
Τίτλος Εφημερίδας
Περιοδικό ISSN
Τίτλος τόμου
Εκδότης
American Institute of Physics
Περίληψη
Τύπος
Είδος δημοσίευσης σε συνέδριο
Είδος περιοδικού
peer reviewed
Είδος εκπαιδευτικού υλικού
Όνομα συνεδρίου
Όνομα περιοδικού
Applied Physics Letters
Όνομα βιβλίου
Σειρά βιβλίου
Έκδοση βιβλίου
Συμπληρωματικός/δευτερεύων τίτλος
Περιγραφή
We present results on the stability and tailoring of the cell size of conducting delta-Ti(x)Ta(1-x)N obtained by film growth and ab initio calculations. Despite the limited solubility of Ta in Ti, we show that TiN and TaN are soluble due to the hybrization of the d and sp electrons of the metal and N, respectively, that stabilizes the ternary system to the rocksalt structure. The stress-free cell sizes follow the Vegard's rule; nevertheless, process-dependent stresses expand the cell size of the as-grown films. The electronic properties of delta-Ti(x)Ta(1-x)N films (p=180 Omega cm) are similar to those of TiN and TaN. (c) 2008 American Institute of Physics.
Περιγραφή
Λέξεις-κλειδιά
preferred orientation, copper metallization, optical-properties, evolution, tan, microstructure, contacts, stress, growth, energy
Θεματική κατηγορία
Παραπομπή
Σύνδεσμος
<Go to ISI>://000258184600019
Γλώσσα
en
Εκδίδον τμήμα/τομέας
Όνομα επιβλέποντος
Εξεταστική επιτροπή
Γενική Περιγραφή / Σχόλια
Ίδρυμα και Σχολή/Τμήμα του υποβάλλοντος
Πανεπιστήμιο Ιωαννίνων. Σχολή Θετικών Επιστημών. Τμήμα Μηχανικών Επιστήμης Υλικών