Hybrid pulsed laser deposition of ti-cu-n ternary nitride thin films
Φόρτωση...
Ημερομηνία
Συγγραφείς
Matenoglou, G. M.
Evangelakis, G. A.
Kosmidis, C.
Patsalas, P.
Τίτλος Εφημερίδας
Περιοδικό ISSN
Τίτλος τόμου
Εκδότης
Περίληψη
Τύπος
Είδος δημοσίευσης σε συνέδριο
Είδος περιοδικού
peer reviewed
Είδος εκπαιδευτικού υλικού
Όνομα συνεδρίου
Όνομα περιοδικού
Reviews on Advanced Materials Science
Όνομα βιβλίου
Σειρά βιβλίου
Έκδοση βιβλίου
Συμπληρωματικός/δευτερεύων τίτλος
Περιγραφή
In this work we present the growth of Ti-Cu-N ternary films by a hybrid Pulsed Laser Deposition (PLD) process. In the configuration used, the metal source was a composite Ti-Cu target, which was ablated by a high-fluence Nd:YAG laser (2nd harmonic, lambda=532 nm) in a flowing N-2. The process was carried out in a homogeneous electric field with the substrate being at a negative DC potential (bias voltage V-b=-50 V) with respect to the ablation target. Films with the typical gold-like appearance of TiN were grown at P-N2 similar to 10(-1) Pa. The effects of P-N2 to the Metal/N ratio and Ti/Cu ratio into the films, as well as the crystal structure of the films were studied employing Auger Electron Spectroscopy (AES) and X-Ray Diffraction (XRD), respectively. The films were found to consist of nanocrystalline TiN and amorphous Cu. Cu did not crystallize even in the Curich films. The N was found to be bonded exclusively with Ti.
Περιγραφή
Λέξεις-κλειδιά
mechanical-properties, coatings, copper
Θεματική κατηγορία
Παραπομπή
Σύνδεσμος
<Go to ISI>://000250547100007
Γλώσσα
en
Εκδίδον τμήμα/τομέας
Όνομα επιβλέποντος
Εξεταστική επιτροπή
Γενική Περιγραφή / Σχόλια
Ίδρυμα και Σχολή/Τμήμα του υποβάλλοντος
Πανεπιστήμιο Ιωαννίνων. Σχολή Επιστημών και Τεχνολογιών. Τμήμα Βιολογικών Εφαρμογών και Τεχνολογιών